重生08：装备系男神 第528节 (第1/2页)

    “作为功率模块的上游，部分设备可以共用，‘高温粉末反应炉’和‘pvt晶体生长炉’将是项目攻克的核心...”

    穿上了无尘服，男女更衣间里各自走出，三人再度汇合。

    一连串消毒出尘工作，对于从未在“机核半导体”工作过的周墨有些陌生，不过有样学样倒也没出差错。

    很快，他就看到了这处实验室的真正内容。

    一台组装进度一半左右的大型设备。

    翟达介绍道：“高温反应炉在另外的地方，那边主要是葛巧巧负责，这台是pvt...”

    “pvt技术应用很广泛，历史悠久，不过针对不同物质需要一些调整，以前我们还得买个原型机回来，这次有基础了可以从零开始...”

    简单比喻一下衬底生成，就是将纯度大于99.9995%的碳粉和硅粉混合，在2000c下化学反应生成“碳化硅颗粒”。（依托高温反应炉）

    然后再换个设备，将“碳化硅颗粒”加热至2300c°使其气化升华，通过高低温分区，使其均匀的凝结在指定位置上，物理原理和“冷凝水”类似，只不过是固体。

    这一过程就叫“物理气相传输法（pvt）”，速度很慢，一天只能成长3mm。

    pvt得到的是一块圆柱形的“晶锭”，要用金刚石线切割成1毫米以下的薄片，再反复打磨、打磨再打磨...就是他们平时用的“衬底”了。

    之所以慢成这个逼样子，是因为碳化硅在常规条件下没有液态，只能用升华气态再凝固的笨办法，而硅基芯片同环节中有液态，可以做“熔融拉晶”，效率是碳化硅的数百倍。

    目前来说，翟达也没有什么太好的办法，虽然理论上碳化硅在10gpa，也就是一万倍大气压下可以液化，但那又会涉及到如何精准控制确保均匀的问题。

    产业技术永远不是单纯的物理参数，那样的特殊设备造出来，也没有量产的能力与意义。

    当下产业界的规划方向里，也有一些新点子，比如ymus超声喷涂技术、液相法（lpe），或者干脆找一些催化剂进行化学沉积（cvd）...

    但产业技术不是单纯物理参数的同时，也不会是单纯的研究室行为。

    花费许多时间去硬钻牛角尖，反而可能导致市场变化、失去领先地位。

    现阶段，英飞凌和研究院不清不楚的关系，让翟达很有危机意识。

    他丝毫不怀疑，只要白宫开始吟唱了，英飞凌立刻就会半推半就，弃明投暗。

    咱做事啊，要分得清主要矛盾和次要矛盾，比如，要先解决对手“死不死”的问题。

    确认死了，坟头蹦迪再整花活为时不晚。

    超声喷涂也好，液相法也好，以后都会有的。

    所以他还是老思路：大的，就是好的！

    如同超大腔体cvd一样，他的还是寄希望于强大的“系统工程全局化能力”，朝多腔体并行生长的方向走，能效大概能提升3-5倍，加之国内的产业链优势，本就比德国廉价，整体提升依旧显著。

    周墨蹲下从各个角度往里看，出言道：“感觉进度已经很高了，会长真厉害。”

    翟达：“不光是我的功劳，研究院和‘机核半导体’的数十名工程师都有参与，只是今天国庆后第一天上班，还没准备好罢了。”

    他将两队人分成了ab两组，并非天天在这猫着，而是根据他布置的任务，去进行实验、模拟、甚至部件加工采购。

    毕竟对其他人来说，弄不明白的事情在这熬一晚上也还是弄不明白，要和其他部分联动起来。

    有趣的是，不论a组还是b组，隔几天回来一趟，就会“卧槽”一句，心道：另外一组这么猛么！进度这么快！

    然后回去就开始虚空索敌，卯足马力开卷。

    a组这是人啊，这么牛逼！我们b组也不能拖后腿啊。

    b组这么牛逼！我们a组得加把劲。

    但实际上，这一切都是翟达半夜偷偷开挂导致的，别人眼中翟总只是晚走了几个小时，却不知对翟达来说，已经多了近一周的工作量。

    白天大家一起“开工”，晚上老板来“开挂”，这就是进度为何快的原因。

    翟达摸了摸下巴，却只摸到了无尘服的塑料，样子看上去有些幽默：“不可否认...这玩意儿比外延cvd要复杂，尤其是多腔体并行的情况下...红外列阵控温系统压力巨大...”

    在翟达看来，设备攻克难度没有很高，难点在于将各个流程统一起来，并且应用于实际生产。

    就像之前机核半导体，几个设备攻克的很快，但建厂投产花了小半年时间。

    不过这次...研究院有着更强的班底、更多的经验。

    自己的挂力也已经不可同日而语了。

    “哎...保守估计...至少还要两个月时间，难啊...”

    周墨：您要不要听听您在说什么！

    第490章